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臥式砂磨機(jī)做納米研磨為什么比球磨機(jī)快10倍:原理與選型全解析

企業(yè)博客 作者:天創(chuàng)粉體 發(fā)布日期:2026-04-07 訪問量:8

臥式砂磨機(jī)能把鋰電池正極粉體研到100nm以下,而同等投料量用行星球磨機(jī)至少要多花8到10倍時(shí)間——這不是夸張,而是濕法研磨與干法研磨在物理機(jī)制上的根本差異。

本文從工作原理切入,系統(tǒng)拆解臥式砂磨機(jī)的核心技術(shù)邏輯、關(guān)鍵選型參數(shù),以及在新能源、電子材料、涂料等主流領(lǐng)域的真實(shí)應(yīng)用需求,幫助研發(fā)工程師和采購決策者做出更準(zhǔn)確的判斷。

 

臥式砂磨機(jī)的核心優(yōu)勢:濕法研磨為什么更快

 

干法與濕法的本質(zhì)差別

干法研磨(包括行星球磨、氣流粉碎)依賴顆粒與顆粒之間、顆粒與研磨體之間的撞擊與摩擦。顆粒越細(xì),比表面積越大,顆粒間范德華力越強(qiáng),極容易產(chǎn)生團(tuán)聚——粒徑越研越細(xì),但顆粒卻抱團(tuán)反彈,導(dǎo)致有效細(xì)化到了瓶頸。

濕法研磨則完全不同:物料預(yù)先分散在液態(tài)介質(zhì)(水基或溶劑體系)中,通過高速旋轉(zhuǎn)的分散盤帶動(dòng)研磨珠(通常為氧化鋯珠)產(chǎn)生強(qiáng)烈的剪切、碰撞和摩擦作用,同時(shí)液相介質(zhì)起到隔離、潤濕和冷卻的三重作用,有效阻斷團(tuán)聚的形成路徑。

結(jié)論先行: 在亞微米至納米級(jí)研磨任務(wù)中,濕法砂磨的能量利用效率比干法高出數(shù)倍,研磨到200nm以下的時(shí)間通常縮短80%以上。

臥式結(jié)構(gòu)的額外優(yōu)勢

同為濕法研磨設(shè)備,立式砂磨機(jī)和臥式砂磨機(jī)各有適用場景,但在納米級(jí)研磨領(lǐng)域,臥式結(jié)構(gòu)具備三個(gè)關(guān)鍵優(yōu)勢:

① 研磨珠分布均勻

立式砂磨機(jī)受重力影響,研磨珠容易在腔體底部堆積,形成密度梯度,導(dǎo)致物料在筒體不同截面受力不均。臥式砂磨機(jī)研磨筒體水平放置,研磨珠隨轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)方向均勻分散在腔體截面內(nèi),每一段筒體獲得的研磨強(qiáng)度高度一致。

② 適合小介質(zhì)、高轉(zhuǎn)速

臥式結(jié)構(gòu)對于0.3(3000 r/min)下保持穩(wěn)定運(yùn)動(dòng)而不會(huì)因重力產(chǎn)生沉降偏移,這是實(shí)現(xiàn)超細(xì)研磨的前提。

③ 連續(xù)生產(chǎn)與精準(zhǔn)放大

臥式砂磨機(jī)通常采用泵浦或自吸方式將料漿持續(xù)通過研磨腔,實(shí)現(xiàn)連續(xù)研磨。實(shí)驗(yàn)室結(jié)果可以依照研磨腔容積比例進(jìn)行線性放大,從0.3L實(shí)驗(yàn)機(jī)到5L、30L、150L量產(chǎn)機(jī),工藝參數(shù)的傳遞一致性非常好,這正是科研到產(chǎn)業(yè)化轉(zhuǎn)化中最被工程師看重的能力。

 

棒銷式分散盤:臥式砂磨機(jī)的技術(shù)核心

 

臥式棒銷納米砂磨機(jī)整機(jī)外觀

臥式砂磨機(jī)的研磨效能,最終取決于分散系統(tǒng)的設(shè)計(jì)。棒銷式分散盤(Pin Disc)是目前納米砂磨機(jī)領(lǐng)域最主流的結(jié)構(gòu)之一,天創(chuàng)粉末在實(shí)驗(yàn)型臥式棒銷納米砂磨機(jī)(TC-FT0.3)上采用了這一核心設(shè)計(jì)。

棒銷結(jié)構(gòu)的工作原理

棒銷分散盤由主軸及均勻排布的棒狀銷釘(Pin)構(gòu)成,與固定在筒壁上的定銷交錯(cuò)排列,形成密集的研磨區(qū)域。

當(dāng)轉(zhuǎn)子以約2875 r/min高速旋轉(zhuǎn)時(shí),研磨珠被甩向外圈,在動(dòng)銷與定銷之間形成高頻碰撞和剪切場。每一個(gè)間隙都是一個(gè)獨(dú)立的"研磨單元",棒銷排列越密,研磨單元數(shù)量越多,對物料的作用次數(shù)越高,最終粒度分布越窄、越均勻。

與圓盤式的對比

分散結(jié)構(gòu) 適用粒度 優(yōu)勢 局限
棒銷式(Pin) 100nm~2μm 窄分布,均勻性強(qiáng) 清洗相對復(fù)雜
圓盤式(Disc) 500nm~5μm 通量大,易清洗 超細(xì)研磨分布略寬
齒環(huán)式 200nm~10μm 高剪切,適合高黏度 對小珠兼容性略差

對于鋰電漿料、MLCC陶瓷粉、納米色漿等對粒度均勻性要求極高的應(yīng)用場景,棒銷式是最優(yōu)先的結(jié)構(gòu)選擇。

線速度決定研磨強(qiáng)度

棒銷尖端的線速度直接決定研磨能量的輸入強(qiáng)度。TC-FT0.3的線速度為10.6 m/s,這一參數(shù)處于實(shí)驗(yàn)型砂磨機(jī)的高端水平。

線速度過低(<8 m/s),研磨珠動(dòng)能不足,細(xì)化速度慢;線速度過高(>15 m/s),物料受熱過度,同時(shí)對機(jī)件磨損加劇。10~13 m/s是兼顧研磨效率與設(shè)備壽命的黃金區(qū)間。

 

TC-FT0.3實(shí)驗(yàn)型臥式棒銷納米砂磨機(jī):參數(shù)解讀

 

長沙天創(chuàng)粉末技術(shù)有限公司推出的TC-FT0.3是目前國內(nèi)實(shí)驗(yàn)室納米研磨領(lǐng)域的代表性產(chǎn)品,完整的系統(tǒng)集成設(shè)計(jì)使其具備從樣品預(yù)分散到納米研磨一鍵完成的能力。

核心技術(shù)參數(shù)

項(xiàng)目 參數(shù)
型號(hào) TC-FT0.3
研磨腔凈容積 0.3 L
加工批量 0.25~0.7 L
電機(jī)功率 1.1 kW
轉(zhuǎn)速 2875 r/min
線速度 10.6 m/s
處理能力(粒度) 200nm~2μm
介質(zhì)尺寸 0.3~1.4 mm
密封形式 唇封式
分離形式 動(dòng)態(tài)縫隙分離
冷卻方式 夾層冷卻
控制系統(tǒng) 西門子7寸觸摸屏 + PLC
電源 220V
整機(jī)重量 90 kg

動(dòng)態(tài)縫隙分離:解決堵塞的關(guān)鍵

傳統(tǒng)砂磨機(jī)采用靜態(tài)篩網(wǎng)分離介質(zhì),細(xì)珠子容易堵住篩網(wǎng),尤其在使用0.3~0.5mm超細(xì)珠時(shí),堵網(wǎng)問題是實(shí)驗(yàn)室最常見的運(yùn)行故障。

TC-FT0.3采用動(dòng)態(tài)縫隙分離系統(tǒng),分離件隨轉(zhuǎn)子同步旋轉(zhuǎn),借助離心力將研磨珠甩離出料區(qū)域,實(shí)現(xiàn)無篩網(wǎng)的介質(zhì)攔截。這一設(shè)計(jì)使得0.3mm超細(xì)研磨珠得以穩(wěn)定使用,同時(shí)大幅降低了維護(hù)頻率。

一體化系統(tǒng)設(shè)計(jì)

整機(jī)除研磨主機(jī)外,還集成了:

  • 電動(dòng)攪拌頭(120W / 3000 r/min):用于物料預(yù)分散,確保進(jìn)入研磨腔前的漿料均勻性
  • 1L不銹鋼物料罐:帶夾層冷卻,防止預(yù)分散時(shí)物料升溫
  • 西門子PLC觸摸屏控制:可設(shè)定研磨時(shí)間、轉(zhuǎn)速、溫度上限,支持一鍵啟停

這種一體化設(shè)計(jì)減少了實(shí)驗(yàn)室設(shè)備采購的復(fù)雜度,對于配方開發(fā)階段的科研人員尤為友好。

臥式砂磨機(jī)內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意

 

量產(chǎn)型納米砂磨機(jī):從實(shí)驗(yàn)室到工廠的放大邏輯

實(shí)驗(yàn)成功之后,下一個(gè)問題是:如何準(zhǔn)確放大到量產(chǎn)規(guī)模?這是很多研發(fā)工程師在推進(jìn)產(chǎn)業(yè)化時(shí)遭遇的難題。

為什么砂磨機(jī)放大比球磨機(jī)容易

行星球磨機(jī)的研磨強(qiáng)度來自公轉(zhuǎn)/自轉(zhuǎn)比和球料比,這些參數(shù)在放大過程中難以等比維持,小試和中試的粒度結(jié)果經(jīng)常出現(xiàn)偏差,需要反復(fù)調(diào)試。

臥式砂磨機(jī)則不同——關(guān)鍵參數(shù)是線速度、研磨腔體積和單位體積能量密度。只要保證線速度相近(通過調(diào)整轉(zhuǎn)速實(shí)現(xiàn)),從小腔體到大腔體的放大幾乎是線性的。

天創(chuàng)粉末量產(chǎn)型納米砂磨機(jī)系列覆蓋從5L到150L的全規(guī)格:

型號(hào) 研磨腔容積 電機(jī)功率 加工批量 處理能力
TC-FT5 5 L 15 kW 20~150 L 100nm~2μm
TC-FT10 10 L 22 kW 30~300 L 100nm~2μm
TC-FT30 30 L 45 kW 100~1000 L 100nm~2μm
TC-FT60 60 L 75 kW 200~2000 L 100nm~2μm
TC-FT150 150 L 160 kW 800~6000 L 100nm~2μm

量產(chǎn)型的技術(shù)升級(jí)點(diǎn)

從TC-FT0.3實(shí)驗(yàn)機(jī)到量產(chǎn)型,以下幾個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)發(fā)生了設(shè)計(jì)升級(jí):

密封形式升級(jí)為機(jī)械密封:量產(chǎn)機(jī)采用雙端面機(jī)械密封,適應(yīng)連續(xù)運(yùn)行中更高的腔內(nèi)壓力和溫升,密封壽命更長。

分離形式改為靜態(tài)篩網(wǎng):量產(chǎn)環(huán)境中研磨珠規(guī)格通常穩(wěn)定在0.5~2mm,靜態(tài)篩網(wǎng)的維護(hù)成本更低,更換周期可預(yù)測。

泵浦輸送替代自吸:量產(chǎn)機(jī)配備獨(dú)立進(jìn)料泵,可精確控制流速(影響物料在研磨腔內(nèi)的停留時(shí)間,進(jìn)而影響最終粒度)。

智能化控制升級(jí):配備PLC + 觸摸屏,支持流速、轉(zhuǎn)速、溫度的聯(lián)動(dòng)閉環(huán)控制,可實(shí)現(xiàn)24小時(shí)無人值守連續(xù)生產(chǎn)。

 

六大核心應(yīng)用場景:臥式砂磨機(jī)在哪些領(lǐng)域不可替代

 

場景一:鋰電池正負(fù)極材料漿料

磷酸鐵鋰(LFP)、三元材料(NCM/NCA)的導(dǎo)電性依賴顆粒的納米化和均勻分散,漿料粒度D50通常需要控制在300nm以下。

臥式砂磨機(jī)在此場景的核心價(jià)值在于:一次過腔即可將粒度從微米級(jí)壓縮到亞微米級(jí),配合可拆卸清洗的氧化鋯腔體,有效控制金屬離子污染,滿足電池級(jí)漿料對雜質(zhì)的嚴(yán)苛要求。

天創(chuàng)粉末攪拌球磨機(jī)可以與臥式砂磨機(jī)形成前處理+精研磨的組合工藝,攪拌球磨機(jī)用于粗研磨和均化,臥式砂磨機(jī)完成最終的納米化處理。

場景二:MLCC(多層陶瓷電容器)

MLCC的介電層厚度已經(jīng)薄化到1μm以下,這要求鈦酸鋇(BaTiO?)粉體的D50必須低于200nm,且粒度分布極窄(Span值<1.5)。

超寬的粒度分布會(huì)導(dǎo)致介電層厚度不均,引發(fā)擊穿電壓下降和電容量離散性增大。棒銷式臥式砂磨機(jī)正是MLCC漿料制備的首選設(shè)備,其研磨的均一性優(yōu)于任何干法工藝。

場景三:納米色漿與陶瓷墨水

噴墨打印的墨水顆粒粒徑必須小于噴嘴孔徑的1/3以上,通常要求顏料粒徑低于200nm,且長時(shí)間靜置后不發(fā)生沉降。

臥式砂磨機(jī)處理色漿的優(yōu)勢在于:通過調(diào)節(jié)研磨次數(shù)(循環(huán)次數(shù))和介質(zhì)尺寸,可以精準(zhǔn)控制目標(biāo)粒度,同時(shí)對顏料粒子的表面處理(表面活性劑吸附)友好,研磨后無需重新配方。

場景四:催化劑超細(xì)化

化工行業(yè)催化劑(如納米氧化鋁、氧化鈰、二氧化鈦)的活性與比表面積強(qiáng)相關(guān),納米化處理可以將比表面積提升10~50倍,顯著提高催化效率。

臥式砂磨機(jī)在此場景中需要搭配耐腐蝕內(nèi)襯(碳化硅或聚氨酯),以適應(yīng)催化劑制備中的強(qiáng)酸/強(qiáng)堿漿料體系。

場景五:醫(yī)藥納米化制劑

難溶性藥物(BCS II類)的生物利用度可通過納米化顯著提升——粒徑從微米級(jí)降至500nm以下,溶出速率可提高3~5倍。

臥式砂磨機(jī)在醫(yī)藥領(lǐng)域的技術(shù)壁壘在于材質(zhì)潔凈度:腔體、研磨珠、軸封必須符合醫(yī)藥GMP要求,使用316L不銹鋼或醫(yī)用級(jí)碳化鎢,確保研磨過程零金屬污染。

場景六:石墨烯導(dǎo)電漿料

石墨烯作為片狀二維材料,剝離過程需要強(qiáng)剪切力但需避免過度破壞片層結(jié)構(gòu)。臥式砂磨機(jī)通過調(diào)低轉(zhuǎn)速,可以在維持片徑的前提下實(shí)現(xiàn)有效剝離,這是干法研磨無法實(shí)現(xiàn)的精細(xì)控制。

 

研磨介質(zhì)選型:小小珠子決定大局

 

研磨介質(zhì)(珠子)的選擇往往被忽視,但它直接影響研磨效率、產(chǎn)品純度和設(shè)備壽命。以下是主流介質(zhì)的對比:

常見研磨珠對比

介質(zhì)材質(zhì) 密度 硬度 適用場景 污染風(fēng)險(xiǎn)
氧化鋯(YTZ) 6.0 極高 電池材料、MLCC、精密陶瓷 極低(Zr)
氧化鋁 3.7 涂料、一般化工 低(Al)
氮化硅 3.2 半導(dǎo)體材料 極低
不銹鋼 7.8 對金屬離子不敏感的場景 較高(Fe/Cr)
碳化鎢 14.8 極高 硬質(zhì)材料粗研磨 中(W/Co)

核心原則:研磨珠密度越高,相同轉(zhuǎn)速下動(dòng)能越大,研磨效率越高;但污染風(fēng)險(xiǎn)也隨之變化。新能源電池材料和電子漿料對金屬離子極為敏感,首選氧化鋯(釔穩(wěn)定氧化鋯,YTZ)。

珠徑與目標(biāo)粒度的關(guān)系

行業(yè)經(jīng)驗(yàn)法則:最終目標(biāo)粒度約等于研磨珠直徑的1/1000。

  • 目標(biāo) D97 = 1μm → 珠徑選 1.0~1.4mm
  • 目標(biāo) D97 = 500nm → 珠徑選 0.5~0.8mm
  • 目標(biāo) D97 = 200nm → 珠徑選 0.3~0.5mm

TC-FT0.3支持0.3~1.4mm全尺寸范圍,覆蓋了從亞微米到200nm以下的研磨需求。

珠充填率的影響

研磨腔內(nèi)珠充填率(體積分?jǐn)?shù))通常維持在70%~85%之間:

  • 充填率 <65%:研磨珠碰撞頻率不足,研磨效率低
  • 充填率 >90%:腔內(nèi)過于擁擠,物料流動(dòng)受阻,功耗劇增且升溫明顯

 

物料體系適配:黏度與固含量的平衡

 

黏度范圍

臥式砂磨機(jī)對物料黏度有一定要求。黏度過低(<20 mPa·s),研磨珠容易沉降失效;黏度過高(>20000 mPa·s),物料流動(dòng)阻力過大,泵送困難。

量產(chǎn)型納米砂磨機(jī)(TC-FT5至TC-FT150系列)的適用黏度范圍為20~20000 mPa·s,涵蓋了絕大多數(shù)工業(yè)漿料體系。

固含量建議

  • 高固含量(40%~60%):適用于涂料、色漿、電池漿料,研磨效率高,但需注意黏度控制
  • 低固含量(5%~20%):適用于催化劑、藥物納米化,分散均勻性更好,但單批次產(chǎn)出量低

固含量過高(>70%)時(shí),漿料黏度急劇上升,建議分階段投料或增加分散劑用量。

溶劑體系選擇

臥式砂磨機(jī)可以處理水基、醇基、酮類、酯類等多種溶劑體系:

  • 水基:唇封式或機(jī)械密封均可,最經(jīng)濟(jì)
  • 醇/酮/酯類有機(jī)溶劑:需確認(rèn)密封件的溶劑兼容性,通常需要更換為氟橡膠密封
  • 強(qiáng)酸/強(qiáng)堿:需選配聚氨酯或碳化硅內(nèi)襯,并確認(rèn)金屬件的防腐等級(jí)

TC-FT0.3的腔體及核心部件支持碳化鎢、聚氨酯、氧化鋯、碳化硅、氮化硅等多種材質(zhì)更換,為不同體系的實(shí)驗(yàn)提供了充足的靈活性。

 

實(shí)驗(yàn)室砂磨機(jī)選型的五個(gè)核心決策點(diǎn)

 

量產(chǎn)型納米砂磨機(jī)機(jī)組外觀

在采購臥式砂磨機(jī)之前,以下五個(gè)問題需要明確答案:

決策點(diǎn)1:目標(biāo)粒度是多少?

這是最根本的選型依據(jù):

  • D50 > 1μm:可考慮立式砂磨機(jī)或攪拌球磨機(jī),成本更低
  • D50 = 200nm~1μm:臥式砂磨機(jī)是首選
  • D50 < 200nm:需選擇配備動(dòng)態(tài)縫隙分離、支持≤0.3mm研磨珠的高端臥式砂磨機(jī)

決策點(diǎn)2:批量規(guī)模多大?

實(shí)驗(yàn)室階段通常每次處理0.1~0.7L加工批量覆蓋了大部分實(shí)驗(yàn)室需求。如果實(shí)驗(yàn)階段樣品量極小(<50mL),可考慮搭配實(shí)驗(yàn)室砂磨分散一體機(jī)作為補(bǔ)充。

決策點(diǎn)3:物料體系中有無腐蝕性或特殊純度要求?

  • 含強(qiáng)酸/強(qiáng)堿:需選擇聚氨酯或碳化硅內(nèi)襯
  • 電子/電池級(jí):必須選擇氧化鋯腔體 + YTZ研磨珠,避免任何金屬離子引入
  • 生物醫(yī)藥級(jí):需符合GMP,腔體和密封材料均需醫(yī)用認(rèn)證

決策點(diǎn)4:是否需要可放大性?

如果實(shí)驗(yàn)結(jié)果最終要放大到量產(chǎn),優(yōu)先選擇與量產(chǎn)型同系列、相同工作原理的實(shí)驗(yàn)機(jī)(如TC-FT0.3對應(yīng)TC-FT5/10/30/60/150系列),以保證工藝參數(shù)的可遷移性,避免放大時(shí)重新開發(fā)工藝。

決策點(diǎn)5:實(shí)驗(yàn)頻率和清洗需求

頻繁切換物料品種的實(shí)驗(yàn)室對清洗效率要求高:

  • 棒銷式腔體需要拆裝沖洗,每次約需15~30分鐘
  • 如果每日切換物料≥3種,建議選擇快拆式研磨腔設(shè)計(jì)
  • 配備1L帶夾層冷卻物料罐的集成系統(tǒng)(如TC-FT0.3)可以減少清洗過程中的物料殘留

 

使用維護(hù)要點(diǎn):延長設(shè)備壽命的關(guān)鍵操作

 

啟動(dòng)前檢查

  1. 確認(rèn)研磨珠充填量在規(guī)定范圍內(nèi)(腔體容積的70%~80%)
  2. 檢查密封件是否有磨損或滲漏跡象
  3. 確認(rèn)冷卻水連接正常,夾層無堵塞
  4. 物料黏度測試:確保進(jìn)料黏度在設(shè)備額定范圍內(nèi)

運(yùn)行中監(jiān)控

  • 溫度監(jiān)控:出料溫度應(yīng)控制在45℃以內(nèi),若超過50℃需降低轉(zhuǎn)速或增大冷卻水流量
  • 壓力監(jiān)控:腔內(nèi)背壓異常升高通常是篩網(wǎng)堵塞或物料黏度過高的信號(hào)
  • 研磨效率監(jiān)控:每隔一定時(shí)間取樣檢測粒度,判斷研磨是否到達(dá)平臺(tái)期(粒度不再下降)

定期維護(hù)

  • 每50小時(shí):檢查唇封磨損量,必要時(shí)更換
  • 每200小時(shí):檢查棒銷和定銷的磨損,測量間隙是否超出設(shè)計(jì)公差
  • 每500小時(shí):全面拆檢腔體,測量內(nèi)壁磨損量,記錄存檔

常見故障排查

故障現(xiàn)象 常見原因 處理建議
出口粒度突然變大 研磨珠破碎混入物料 停機(jī)檢查,更換研磨珠,檢查分離系統(tǒng)
腔內(nèi)壓力異常升高 物料黏度過高或篩網(wǎng)堵塞 降低進(jìn)料速度,清洗分離件
密封處滲漏 唇封老化或軸磨損 更換密封件
轉(zhuǎn)速不穩(wěn) 變頻器故障或電機(jī)過熱 檢查變頻參數(shù),清理電機(jī)散熱

 

搭配使用:砂磨機(jī)上下游的設(shè)備組合

臥式砂磨機(jī)通常不單獨(dú)使用,而是作為研磨工藝鏈的核心節(jié)點(diǎn),與上下游設(shè)備配合,形成完整的漿料制備流程:

前處理階段分散混合機(jī) → 將粉體與溶劑、分散劑預(yù)混至均勻懸浮液,消除大顆粒團(tuán)聚,避免研磨珠被大顆粒卡住導(dǎo)致堵塞。

粗研磨階段(可選)攪拌球磨機(jī) → 對于初始粒度較大(>10μm)的物料,先用攪拌球磨機(jī)研磨至1~3μm,再進(jìn)入砂磨機(jī)精研,可大幅減少砂磨循環(huán)次數(shù),降低總體能耗。

精研磨階段:臥式砂磨機(jī)(TC-FT0.3 / TC-FT5)。

后處理階段:過濾除雜 → 使用0.5~5μm的精密過濾器去除破碎的研磨珠碎片和其他雜質(zhì),確保產(chǎn)品純凈度。

這一完整的工藝鏈設(shè)計(jì),使實(shí)驗(yàn)室研發(fā)與量產(chǎn)之間的銜接更加順暢,無需因設(shè)備差異而重新驗(yàn)證工藝窗口。

 

總結(jié)

 

臥式砂磨機(jī)之所以在納米濕法研磨領(lǐng)域成為不可替代的核心裝備,本質(zhì)上是由濕法研磨的物理機(jī)制優(yōu)勢、臥式結(jié)構(gòu)的介質(zhì)均勻分布特性,以及棒銷式轉(zhuǎn)子的高頻碰撞研磨能力共同決定的。

長沙天創(chuàng)粉末技術(shù)有限公司(TENCAN)的臥式棒銷納米砂磨機(jī)系列,從0.3L實(shí)驗(yàn)機(jī)到150L量產(chǎn)機(jī),構(gòu)建了一條完整的工藝放大路徑,實(shí)驗(yàn)結(jié)果與量產(chǎn)結(jié)果的一致性是研發(fā)工程師選擇這一系列產(chǎn)品的核心理由。

一句話總結(jié): 臥式砂磨機(jī)是實(shí)現(xiàn)納米級(jí)濕法研磨的最高效工具,選對介質(zhì)、控好線速度、做好前處理,就能最大化發(fā)揮其研磨潛能。

 


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